成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時(shí)間、目測(cè)、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強(qiáng)，膜層的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料，離子蒸發(fā)鍍膜可以提高膜層的致密性和結(jié)合力及均勻性。鍍膜加工在影響產(chǎn)品質(zhì)量的五大因素〔操作者、設(shè)備、材料、工藝方法及生產(chǎn)環(huán)境)。

真空鍍膜加工清除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工 作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部 件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴(kuò)散泵返油，對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須 采取擋油措施。

清潔處理后的清潔表面不能儲(chǔ)存在大氣環(huán)境中，但應(yīng)儲(chǔ)存在封閉的容器或清潔柜中，以減少灰塵污染。通過(guò)將玻璃基板儲(chǔ)存在新氧化的鋁容器中，可以很大限度地減少碳?xì)浠衔镎羝奈健?/p>

真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環(huán)境的零件，事先都需要小心地進(jìn)行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來(lái)源，會(huì)大大延長(zhǎng)真空器件的排氣時(shí)間，不易獲得高真空。

真空鍍膜工藝則有所不同，真空鍍膜是真空罩內(nèi)進(jìn)行的但這時(shí)鍍膜過(guò)程是以電荷傳遞的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)的，真空鍍膜發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)吸引下，真空鍍膜以很高的速度注入到工件表面。

真空鍍膜加工中頻磁控濺射

目標(biāo)源可分為平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂層均勻，且非平衡靶源的涂層與基材的附著力強(qiáng)。平衡靶源主要用于半導(dǎo)體光學(xué)薄膜，非平衡靶源主要用于裝飾膜的佩戴。

無(wú)論平衡還是不平衡，如果磁鐵是靜止的，其磁性決定了現(xiàn)有材料的利用率通常小于3。為了提高靶材的利用率，可以采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。然而，旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要一個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，并且應(yīng)降低等待速率。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)主要用于大型或有價(jià)值的目標(biāo)。如半導(dǎo)體薄膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，通常使用磁場(chǎng)靜態(tài)目標(biāo)源。