3分鐘前 蓬江無線音箱殼曝光顯影定做誠信企業(yè)「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：3D玻璃遮蔽可以移印，貼合，曲面角度小還是可以做貼合工藝；還有就是曝光顯影；比如vivo X21，是中間貼膜，四周用噴墨曝光顯影補(bǔ)線方式。將需要的圖形根據(jù)油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，掩膜板與噴墨后的玻璃緊密接觸，通過曝光技術(shù)，使圖形轉(zhuǎn)印到玻璃之上，完成原有印刷之功能。蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉(zhuǎn)移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機(jī)器定位或者人工定位的方式去將菲林對(duì)準(zhǔn)，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，固定后進(jìn)行曝光。

刻蝕：使用化學(xué)反應(yīng)或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉，形成所需的電子器件結(jié)構(gòu)。清洗：將芯片在化學(xué)清洗液中清洗干凈，并使用干燥器進(jìn)行干燥。以上這些步驟在芯片制造的不同階段之間可能會(huì)有所不同，以適應(yīng)不同的芯片設(shè)計(jì)和制造要求。將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區(qū)域和負(fù)膠的非曝光區(qū)域溶于顯影液中，進(jìn)一步將反應(yīng)聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現(xiàn)出光刻膠中的圖形，

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。顯影液去除并且清洗（rinse）：達(dá)到顯影時(shí)間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區(qū)域和負(fù)膠的非曝光區(qū)域溶于顯影液中，進(jìn)一步將反應(yīng)聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現(xiàn)出光刻膠中的圖形，