1分鐘前 石龍音響曝光顯影加工公司詢價咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發生聚合反應，然后通過顯影機，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，需要蝕刻的圖案顯影在鋼片上面了。曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結構。

曝光顯影工藝在微電子加工中具有重要作用，主要用于將芯片圖案轉移至硅片表面，從而實現微電子器件的制造。

在實際應用中，曝光顯影工藝通常用于以下方面：制造微處理器：曝光顯影工藝是制造微處理器的主要工藝之一，通過在芯片表面制造出各種不同的電路和器件，實現芯片的功能。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。從而形成可見的圖片。而在數字攝影中，曝光則是相機中的數字傳感器接收到光線所對應的信息，并記錄下來，再通過數字信號處理，將其轉化為圖片的過程。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉到高轉速

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。曝光顯影加工是半導體工業制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。它是通過在芯片表面上涂覆一層光刻膠，并使用掩膜在光刻膠上曝光出所需要的芯片圖案，通過顯影來去除未曝光的部分，將芯片圖案準確地轉移到芯片表面的制程。