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當今鍍膜行業使用的制作方式主要有兩種,一種是化學氣相沉積,也就是化學鍍膜(CVD),一種是物理氣相沉積,也就是真空鍍膜(PVD)。化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學鍍膜的過程中,容易產生溶液污染,如果鍍件表層雜質多,鍍出來的效果不好。化學鍍膜需要的反應溫度很高,一般要控制在 1000℃左右,但很多基體材料是無法經受如此高溫,性能變壞。如在硬質合金刀具上蒸鍍 TiN,基體擴散出來的碳會與溶液發生反應而形成脫碳層,該層韌性差,抗彎強度低,造成刀具使用壽命縮短。而 PVD 技術解決了化學鍍膜中的溶液污染問題,不會產生有毒或有污染的物質,鍍出來的膜層硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性好,性能更穩定,可制備多姿多彩的膜層,鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高 2-10 倍。
因此,從行業的技術發展趨勢來看,等離子處理、真空法將成為未來行業技術發展的方向。
金百辰智能科技(浙江)有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。
汽車輪轂鍍膜機與您分享電子產業真空涂層不僅在五金、塑料機械行業的刀模具上得到應用,其表面硬度高、光潔度好、精密度高等諸多性能使其在電子行業也同樣倍受青睞。例如端子刀片、IC封裝模、PCB加工的微銑微鉆、PCB孔沖壓模、金手具等, 在這些產品上涂層不僅解決了使用者的諸多困擾,還為他們帶來了更多的效益。
優點:
涂層厚度很薄,可滿足電子業高精密度的要求完全環保,滿足各種安規要求(如RoHS指令)提高工具或零件的耐磨性,保證產品質量的穩定性
真空蒸發鍍膜
真空蒸發鍍膜是指在真空條件下,通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜早由 M.法拉第在 1857年提出,經過一百多年的發展,現已成為主流鍍膜技術之一。
真空蒸發鍍膜系統一般由三個部分組成:真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發待沉積的材料,需要容器來支撐或盛裝蒸發物,同時需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。
真空蒸發鍍膜技術具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點,是應用廣泛的鍍膜技術,主要應用于光學元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發料,氧化物蒸發料,氟化物蒸發料等。