5分鐘前 陽(yáng)西錄像機(jī)殼曝光顯影加工報(bào)價(jià)承諾守信「多圖」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：曝光時(shí)菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對(duì)于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應(yīng)，然后通過顯影機(jī)，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，曝光顯影作為玻璃外觀修飾的重要工藝，曝光顯影是一種攝影術(shù)語(yǔ)，它是指將感光材料（如膠片、電影膠片或者數(shù)字?jǐn)z像機(jī)中的傳感器）通過曝光的方式記錄下光影信息，再通過顯影的方式將光影信息制成可視的影像的過程。進(jìn)行曝光工藝加工時(shí)工藝區(qū)間被壓縮，只有對(duì)公差配合完全掌握，才能簡(jiǎn)單可靠的做出合格品。

準(zhǔn)備基礎(chǔ)物質(zhì)：先選擇基礎(chǔ)物質(zhì)如硅片，并在其表面上涂上一層光刻膠。布圖設(shè)計(jì)：根據(jù)芯片設(shè)計(jì)，制定合適的曝光和顯影條件，并在計(jì)算機(jī)上生成掩模圖形來(lái)輔助芯片制造。曝光：使用紫外線曝光機(jī)將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。

用負(fù)顯影工藝可以實(shí)現(xiàn)較窄的溝槽，負(fù)顯影工藝已經(jīng)被廣泛用于20納米及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)中 [1] 。顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，用負(fù)顯影工藝可以實(shí)現(xiàn)較窄的溝槽，負(fù)顯影工藝已經(jīng)被廣泛用于20納米及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)中 [1] 。所以的辦法是依據(jù)顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設(shè)備參數(shù)和感光性能，確定適合的曝光時(shí)間。

曝光時(shí)菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對(duì)于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應(yīng)，然后通過顯影機(jī)，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。