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曝光工藝是怎樣?
將需要的圖形根據油墨的感光特性制成掩膜板(光罩/Mask)
顯影工藝是怎樣?
前工站加工的玻璃進入顯影設備,對需要去除的油墨進行化學反應,進行剝離,然后進行表面清洗,形成高精度的油墨3D蓋板。顯影操作需控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等參數。
曝光一般在曝光機內進行,目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷,曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。
曝光不足,導致單體聚合不,那么在顯影過程中,會使的膠膜變軟,線條不清晰,色澤暗淡,脫膠。曝光過度,會造成難顯影,留有殘膠。
蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。底片尺寸的穩定性隨環境的溫度和貯存時間而變化。所以,底片的生產、貯存和使用采用恒溫的環境,采用厚底片也能提高照相底片的尺寸穩定性。
曝光后,聚合反應還要持續一段時間,為保證工藝的穩定性,曝光后不要立即揭去聚酯膜,以使聚合反應持續進行。待顯影前再揭去聚膜。
取一張沖好定位孔的底片去編鉆孔程序,便能得到同時鉆出元件孔和定位孔的數據帶或數據盤,一次性鉆出元件孔及定位孔,在孔金屬化后預鍍銅,便可用雙圓孔脫銷定位曝光。