1分鐘前 銘牌曝光顯影廠家在線咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，

曝光一般在曝光機內進行，技術關鍵點：低溫平行光源,波長根據油墨特性進行設備，目前光源是一大難點問題。利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統印刷解決的問題，具有精度高，量產性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。

曝光顯影是一種用于光刻制程的技術，主要用于制造半導體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。

曝光顯影工藝在微電子加工中具有重要作用，主要用于將芯片圖案轉移至硅片表面，從而實現微電子器件的制造。

在實際應用中，曝光顯影工藝通常用于以下方面：制造微處理器：曝光顯影工藝是制造微處理器的主要工藝之一，通過在芯片表面制造出各種不同的電路和器件，實現芯片的功能。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，盡管對193i負膠的研發已經傾注了很大的努力，但是其性能仍然與正膠有比較大的差距，所以提出負顯影（Negative Tone Develop，NTD）。用負顯影工藝可以實現較窄的溝槽，負顯影工藝已經被廣泛用于20納米及以下技術節點的量產中

曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉變為其他形式的能量。曝光顯影技術可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質量及其可靠性。預噴淋（pre-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。