平面拋光機行業此刻正遭遇新一輪的洗牌，傳統的平面拋光機隨著廠家越來越多，技術越來越透明，所能帶來的利潤也逐漸微薄。如何能突破瓶頸發展新的商機已是迫在眉睫。為了達到一些其他要求，如去氧化皮、去毛刺、去焊渣、消光等目的，有時也進行噴砂、噴丸和用鋼絲輪刷光等表面處理，用不銹鋼絲輪拋光的表面可以較好地避免鐵污染。而國家扶持半導體的相關政策出來后，隨著硅片生產廠商的積極響應，也給平面拋光機生產廠家帶來了新的契機。

目前以平面拋光機廠家已經開始研發硅片磨拋技術，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。但是在機會之余，我們也面臨一些問題和挑戰，相對國外而言，我們的技術是比較落后的，要想盡快有所成就還需要先向日本，德國等地學習，然后在此基礎上進行改良和完善，以適用我們國內的生產環境。不銹鋼用具應耐蝕、外觀光亮和清潔衛生,用具表面不應附有對人體有毒的物質。

西漢時期的青銅鏡鏡面加工技術更是負有盛名，在《淮南子》中有所描述。以上所有這些表面整平、拋光都是先用簡單的具有一定粗糙度的工具與被整平物體互相摩擦達到整平的目的，然后用較細的砂粒或柔軟具有韌性的纖維物并配以磨料摩擦進一步達到光亮（拋光）的目的。如宋代已有廣泛用氧化鐵作為磨料的拋光技術，這種技術要比國外早數百年。這就是早使用的表面拋光技術，也就是至今仍在使用的機械拋光技術的原形。不過通過對壓塊等模具的巧妙設計，也可以對略有彎曲的工件進行拉絲。隨后，人們發現將研磨材料做成圓盤形平板或將研磨材料的粒子裝在圓盤或帶子上使其運轉，并將被整平拋光表面放在上面可以得到不同程度的平整和光亮度，并且可以節省人力。隨著機電業的發展，這種方法后發展成為現代的各種形式的機械拋光技術。

敏化現象。不銹鋼因含有Cr在表面形成氧化鉻薄膜，失去化學活性，稱為鈍化狀態，但奧氏體系若經過475~850℃溫度范圍時，C會與Cr結合生成碳化鉻（Cr23C6）析出在晶體邊界，因此晶界附近的Cr含量大減，成為貧Cr區。此時，其耐腐蝕性會降低，對腐蝕環境特別敏感，故稱為敏化現象。而這種金屬的分子結構不活躍，所以不容易與空氣發生化學反應，但是并不帶表不銹鋼不會生銹，這需要看使用的方式和地點。敏化現象在氧化酸的使用環境容易腐蝕，此外還有焊接熱影響區和熱間彎曲加工區。其防治方法有：

a) 在475~850℃溫度范圍升降時，迅速通過，讓Cr沒有足夠的時間和C結合，無法析出碳化鉻。

b) 對已經發生敏化現象的不銹鋼施以高溫固溶化處理，加熱至足以使碳化鉻分解的溫度（1040~1150℃），然后急速冷卻，使碳化鉻來不及析出。

c) 選用低碳型不銹鋼加入304L、304LN、316L、316LN、316J1L、317L、317LN，使Cr無法與C結合。一般C含量在0.05%以下，焊接便不會產生晶界腐蝕，但須特別注意清潔，避免油污等含C物質的污染。不銹鋼電解拋光處理可以使整個不銹鋼件表面光亮度均勻，光澤持久，外觀漂亮美觀。在含氫氧酸的混合酸中使用，C含量在0.03%以下。