5分鐘前 景寧音箱曝光顯影來樣定制服務至上「在線咨詢」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：通過曝光顯影技術，可以在微米尺度上制造出高精度的微電子元件。曝光顯影是一種攝影技術中的過程，主要用于將攝影膠片、電影膠片或電子傳感器中記錄的光影信息轉化為可見影像的過程。曝光是將光照射在感光材料上的過程，曝光一般在曝光機內(nèi)進行，目前的曝光機依據(jù)光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產(chǎn)品線條變粗。顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。

曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機器定位或者人工定位的方式去將菲林對準，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，固定后進行曝光。3D玻璃顯影曝光技術在HW mateRs用到了此技術，曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應，然后通過顯影機，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，

曝光步驟是將光線聚焦在光刻膠上，而顯影步驟則是將底材浸泡在顯影劑中達到消除未曝光區(qū)域的目的。通過曝光顯影技術，可以在微米尺度上制造出高精度的微電子元器件和芯片。顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，需要蝕刻的圖案顯影在鋼片上面了。