在應用真空鍍膜加工的全過程中，要求注意下列一些難題。

1、脈沖電鍍電源與電鍍槽中間的間距

為了保證脈沖電流量波型引入鍍槽時不崎變，且衰減系數小，期待在安裝時，脈沖電鍍電源與鍍槽的間距2-3m為宜，要不然對脈沖電流量波型的后沿危害很大，電鍍將不可以超過預估功效。

2、陽陰極的導線銜接方法

直流穩壓電源的導線銜接方法，不宜脈沖開關電源的銜接，脈沖電鍍電源的輸出銜接，期待二根導線的極間電容可以相抵導線的傳送電感器效用。

因此陰、陽極氧化導線有效的方法就是雙絞交叉后，引送至鍍槽邊，隨后維持脈沖波型不會改變。

3、導線的采用

因為是脈沖開關電源，為了避免趨夫效用，在導線挑選時，應挑選多芯銅芯電纜作脈沖開關電源到鍍槽的銜接線，多芯銅芯電纜絞織，期間的線電容器可以相抵其電感器效用。

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。

相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜，環境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。

鍍膜加工的優點

簡單清潔，不吸塵。

使塑料外表有導電性，改善美觀，外表光滑，金屬光澤彩色化，大大提高裝飾性。

改進外表硬度，原塑膠外表比金屬軟而易受損害，經過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大添加。

能夠提高耐候性，削減吸水率，鍍膜次數愈多，孔愈少，吸水率下降，制品不易變形，提高耐熱性。

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜設備的維護需要實際操作，不僅包括真空鍍膜設備本身，還包括真空鍍膜設備等配置。畢竟，配置是真空鍍膜設備維護的重要前提。

真空鍍膜就是于真空室內，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法?！V義的真空鍍膜還包括在屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。