電流密度的凹凸也會(huì)影響不銹鋼真空電鍍的作用，當(dāng)電流密度過低時(shí)，陰極極化作用較小，鍍層結(jié)晶粗大，乃至沒有鍍層。鍍液溫度的升高能加速分散，降低濃差極化，此外，升溫還能使離子的脫水過程加速。跟著電流密度的增加，陰極極化作用跟著增加，鍍層晶粒越來越細(xì)。

為了保障不銹鋼真空電鍍的質(zhì)量，我們在確保良好的電鍍環(huán)境同時(shí)，也需要有一個(gè)能產(chǎn)生正常鍍層的電流密度范圍。可以合理運(yùn)用鍍液中的光亮劑、整平劑、潤濕劑等添加劑來改善鍍層的品質(zhì)。

真空鍍膜機(jī)離子鍍技術(shù)市場使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術(shù)，離子鍍膜技術(shù)不僅僅在國內(nèi)受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)是怎樣的？下面小編為大家詳細(xì)介紹一下：

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。

真空濺射鍍膜的特點(diǎn)

對于任何待鍍材料,只有能做成靶材,就能實(shí)現(xiàn)濺射

濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合良好

濺射所獲得的薄膜純度高,致密性好

濺射工藝可重復(fù)性好,膜厚可控制,同時(shí)可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜

真空濺射鍍膜的缺點(diǎn)

濺射設(shè)備復(fù)雜

濺射淀積的成膜速率低,真空蒸鍍淀積速率為0.1~5μm/min

基板升溫較高和易受雜質(zhì)氣體影響