抽真空系統(tǒng)，目前基本是兩種，一種是擴散泵系統(tǒng)，一種是分子泵系統(tǒng)，分子泵系統(tǒng)屬于清潔抽氣系統(tǒng)，沒有擴散泵的返油現(xiàn)象，抽速也相對比較穩(wěn)定，而且比較省電，電費的支出是鍍膜企業(yè)生產(chǎn)運營成本中很大的一環(huán)。對于泵系統(tǒng)的定期維護是很重要的，特別是潤滑油的定期更換，注意油品牌號的選擇，選擇錯誤很容易損壞真空泵。

真空檢測系統(tǒng)，目前基本都是用復合真空計，熱偶規(guī)+電離規(guī)的組合，這個組合在遇到充入大量含有C元素的氣體的工藝，電離規(guī)很容易毒化，造成電離規(guī)損壞，如果鍍制含有大量C元素的氣體的工藝，可以考慮，配置電容薄膜規(guī)。

真空蒸發(fā)鍍膜的定義

真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術。括熱蒸發(fā)和EB蒸發(fā)（電子束蒸發(fā)）

真空蒸發(fā)鍍膜主要過程

1.采用各種能源方式轉(zhuǎn)成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量的氣態(tài)粒子（原子、分子和原子團）

2.離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；

3.到達基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜

4.組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學鍵合

熱蒸發(fā)原理及特點

熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達并附著在基板表面上的一種鍍膜技術。特點：裝置便宜、操作簡單廣泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等導體材料。

真空離子鍍膜定義

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其反應物蒸鍍在基片上。

離子鍍把輝光放電、等離子體技術與真空蒸發(fā)鍍膜技術結(jié)合在一起

真空離子鍍膜是真空蒸發(fā)和真空濺射鍍膜結(jié)合的一種鍍膜技術。離子鍍的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,在工作氣體離子或者被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在被鍍基片表面的過程