|
公司基本資料信息
|
曝光一般在曝光機內進行,目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷,曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。
曝光不足,導致單體聚合不,那么在顯影過程中,會使的膠膜變軟,線條不清晰,色澤暗淡,脫膠。曝光過度,會造成難顯影,留有殘膠。
蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。圖形顯影
經過曝光過的蓋板進入顯影設備,對需要去除的油墨進行化學反應,將不需要留下的地方進行剝離,然后表面清洗和干燥
顯影就是在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影時,顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。