應用領域

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

售后服務保障

售后服務工程師出自生產線、技術力量無法比較的

多年的國際合作經驗打造了完善的售后服務體系

自主知識產權產品使儀器的運行成本特別是備件成本大幅降低

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。

光源

固態射頻發生器，穩定，體積小巧，，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。 實時監控儀器運行參數，CAN工業現場總線，保障通訊可靠。

進樣系統

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，的位置重現。

ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。

ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。

軟件系統

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗

Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。

鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

鋼研納克：固態光源ICP，國產單道掃描ICP進入固態光源時代

穩健的全固態光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態射頻發生器，體積小、，全自動負載匹配，速度快、精度高，全固態光源ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發性的測試，具有優異的長期穩定性。

垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。

具有低功率待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

實時監控儀器運行參數，以太網及CAN工業現場總線，保障通訊可靠。