電鍍就是指可以拓展金屬材料的負(fù)極電流強(qiáng)度范疇、改進(jìn)涂層的外型、加上水溶液化性的可靠性等特性的液體。如今PVD電鍍加工廠家在生產(chǎn)電鍍液的那時(shí)候都是碰到出泡的狀況，而這種泡沫塑料的產(chǎn)生不但造成產(chǎn)品品質(zhì)不合格，還拖慢PVD鍍膜加工工藝流程，加上過(guò)多的成本，因此以便處理電鍍液出泡的狀況，電鍍液消泡助劑的出現(xiàn)就是因此研發(fā)的。

高頻率電鍍脈沖電鍍電源應(yīng)用注意事宜

電鍍電源是一種新式的電鍍電源，都是電鍍制造行業(yè)中應(yīng)用較多的一種開關(guān)電源。

鍍膜的保護(hù)作用

1、抗酸堿腐蝕,能解決受酸性或堿性物質(zhì)腐蝕的問(wèn)題。

2、低水、氣體滲透性、具高屏障效果,能達(dá)到防潮、防水、防銹及減緩風(fēng)化等作用。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)，以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜加工是利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。

真空鍍膜目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的真空鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。