2分鐘前 惠州平板曝光顯影加工定制貨真價實 清溪利成感光[利成感光38dbdb8]內容：曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機器定位或者人工定位的方式去將菲林對準，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，固定后進行曝光。3D玻璃顯影曝光技術在HW mateRs用到了此技術，曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發生聚合反應，然后通過顯影機，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，

曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。顯影液去除并且清洗（rinse）：達到顯影時間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止，而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。在沖洗過程中，晶圓旋轉產生的離心力也對去除表面顆粒有很大的幫助。

預噴淋（pre-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。蝕刻產品線條變粗。所以的辦法是依據顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設備參數和感光性能，確定適合的曝光時間。目前以藍思、伯恩、比亞迪等為首的加工商在探索驗證小批量產。3D玻璃遮蔽可以移印，貼合，曲面角度小還是可以做貼合工藝；還有就是曝光顯影；比如vivo X21，是中間貼膜，四周用噴墨曝光顯影補線方式。

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區域和負膠的非曝光區域溶于顯影液中，進一步將反應聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現出光刻膠中的圖形，曝光一般在曝光機內進行，曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應