當今鍍膜行業使用的制作方式主要有兩種，一種是化學氣相沉積，也就是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣相沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學鍍膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍件表層雜質多，鍍出來的效果不好。化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在 1000℃左右，但很多基體材料是無法經受如此高溫，性能變壞。如在硬質合金刀具上蒸鍍 TiN，基體擴散出來的碳會與溶液發生反應而形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。而 PVD 技術解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或有污染的物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性好，性能更穩定，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高 2-10 倍。

因此，從行業的技術發展趨勢來看，等離子處理、真空法將成為未來行業技術發展的方向。

退涂

退涂一般有有化學退涂和電解退涂兩種方式，兩者都是采用化學溶液與涂層表面反應的方式進行清潔舊涂層。化學退涂配液方便，設備簡單，但是退涂速度慢，不同種類的涂層需要特定的化學溶液才會有效果。電解退涂幾乎可以退掉所有涂層，并且退涂速度快、但是設備造價高昂，經濟實用性不如化學退涂。

PVD涂層有哪些常用表面處理技術主要就是上述七種技術，不同的表面處理技術作用也不同，但是對于PVD涂層質量都有良好改善，能夠增強涂層表面質量，提高使用效果。

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pvd鍍膜機廠家與您分享真空蒸鍍工藝實例 以塑料金屬化為例,真空蒸鍍工藝包括：鍍前處理、鍍膜及后處理。

真空蒸鍍的基本工藝過程如下：

(1)鍍前處理，包括清洗鍍件和預處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預處理有除靜電，涂底漆等。

(2)裝爐，包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發源安裝、調試、鍍件褂卡。

(3)抽真空，一般先粗抽至6．6Pa以上，更早打開擴散泵的前級維持真空泵，加熱擴散泵，待預熱足夠后，打開高閥，用擴散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。

(4)烘烤，將鍍件烘烤加熱到所需溫度。

(5)離子轟擊，真空度一般在10Pa～10-1Pa，離子轟擊電壓200V～1kV負高壓，離擊時間為5min～30min,

(6)預熔，調整電流使鍍料預熔，除氣1min～2min。

(7)蒸發沉積，根據要求調整蒸發電流，直到所需沉積時間結束。

(8)冷卻，鍍件在真空室內冷卻到一定溫度。

(9)出爐，．取件后，關閉真空室，抽真空至l × l0-1Pa，擴散泵冷卻到允許溫度，才可關閉維持泵和冷卻水。

(10)后處理，涂面漆。