真空鍍膜加工之前應(yīng)注意什么？

有些物質(zhì)會(huì)嚴(yán)重影響真空鍍膜的質(zhì)量，導(dǎo)致顏色異常或變色。因此，不銹鋼首飾制造商應(yīng)盡量避免上述物質(zhì)隱藏在零件中，在制造過(guò)程中無(wú)法去除，以免在后續(xù)的真空電鍍中影響不銹鋼涂層的質(zhì)量。

真空鍍膜加工提高反射膜的反射率也可壓縮帶寬,但對(duì)于金屬-介質(zhì)濾光片而言,過(guò)于減小帶寬將使峰值透射率顯著下降,因此在可見(jiàn)區(qū)，它們的半寬度在5~10 nm為佳．即使是下面將要討論的全介質(zhì)濾光片,增加反射膜層數(shù),提高反射膜的反射率以壓縮帶寬也是有一定限制的。

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有較為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導(dǎo)體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。

在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。

高頻感應(yīng)蒸發(fā)源蒸鍍法：

高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈中央，使蒸發(fā)材料在高頻帶內(nèi)磁場(chǎng)的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失（對(duì)鐵磁體)，使蒸發(fā)材料升溫，直至氣化蒸發(fā)。

優(yōu)點(diǎn)：

1、蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右。

2、蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象。

3、蒸發(fā)材料是金屬時(shí)，蒸發(fā)材料可產(chǎn)生熱量。

4、蒸發(fā)源一次裝料，無(wú)需送料機(jī)構(gòu)，溫度容易控制，操作簡(jiǎn)單。